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瞬渺镀膜机 SiNx-PECVD
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVSSilicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar
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牛津Oxford等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD
等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能
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牛津PlasmaPro 100等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD)
功率器件的刻蚀高品质,高速率SiO2沉积,应用于光子器件金属(Nb, W)刻蚀 zei新的单晶片刻蚀技术-PlasmaPro100 Sapphire。牛津仪器致力于固态照明的技术革新,凭着在
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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD) PlasmaPro 100
片刻蚀技术-PlasmaPro100 Sapphire。牛津仪器致力于固态照明的技术革新,凭着在HBLED相关材料方面经验丰富,设备使用成本控制和符合产量要求的同时,我们的新技术还可以zei大化地提高
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牛津Oxford原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE
PlasmaPro 100 ALE As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices
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牛津Oxford深硅刻蚀机PlasmaPro 100 Estrelas
兼容50mm至200mm的衬底 - 确保您只需一台系统,便具备从研发器件到量产的能力PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。我们
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ETD-100AF 热蒸发镀膜机
机械泵靶材蒸发电流加热功率样品仓尺寸工作真空极限真空前级为飞跃真空泵,后级为复合分子泵碳、金等最大电流100A,最大电压10V1000W直径230mm,高280mm2*10Pa2*10Pa
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ETD-100AF 热蒸发镀膜机
高位定性的飞跃真空泵,涡轮分子泵ETD-100AF is a high vacuum thermal evaporation type small film coating machine.
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英国Oxford 等离子沉积机PlasmaPro 80 ICPCVD
。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 牛津ICP等离子沉积
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